C++ 如何将freetypegl与{0，w，h，0}正交投影一起使用？

freetypegl是为使用{0，w，0，h）投影而编写的，这个库中包含的几乎所有演示都使用该投影。我更喜欢{0，w，h，0}，我不知道如何更改代码以使用该正交。我尝试反转UV，但随后文本与上限对齐，看起来不太好

如何更改代码以使用{0，w，h，0}投影？

void AddGlyph(Vector2& position, const char c, uint color, texture_font_t* ftFont)
{
    texture_glyph_t* glyph = texture_font_get_glyph(ftFont, &c);
    if (c) {
        if (string) {
            position.x += texture_glyph_get_kerning(glyph, &c- 1) * scale;
        }

        //One glyph is a quad and quad has 4 vertices and 6 elements, 
        //it does not impact the case
        MapBuffer(4, 6);

        float x0 = position.x + static_cast<float>(glyph->offset_x),
              y0 = position.y + static_cast<float>(glyph->offset_y),
              x1 = x0 + static_cast<float>(glyph->width),
              y1 = y0 - static_cast<float>(glyph->height),

              u0 = glyph->s0,
              v0 = glyph->t0,
              u1 = glyph->s1,
              v1 = glyph->t1;

        //vertex struct is position, uv, color
        AddVertexData(Vector2(x0, y0), Vector2(u0, v0), color);
        AddVertexData(Vector2(x0, y1), Vector2(u0, v1), color);
        AddVertexData(Vector2(x1, y1), Vector2(u1, v1), color);
        AddVertexData(Vector2(x1, y0), Vector2(u1, v0), color);

        //default rectangle elements dependence
        AddRectElements();

        position.x += glyph->advance_x * scale;
    }
}

void DrawString(const std::string& text, Vector2& position, uint color, const Font& font)
{
    using namespace ftgl;
    texture_font_t* ftFont = font.getFTFont();

    for (const auto& c : text) {
        AddGlyph(position, c, color, ftFont);
    } 
}

void AddGlyph（矢量2和位置、常量字符c、单位颜色、纹理字体*ftFont）
{
纹理字形=纹理字体字形（ftFont，&c）；
如果（c）{
如果（字符串）{
位置.x+=纹理\字形\获取\紧排（字形，&c-1）*比例；
}
//一个标志符号是四边形，四边形有4个顶点和6个元素，
//这对案件没有影响
MapBuffer（4,6）；
浮动x0=位置x+静态施法（字形->偏移x），
y0=位置y+静态施法（字形->偏移y），
x1=x0+静态施法（字形->宽度），
y1=y0-静态施法（字形->高度），
u0=字形->s0，
v0=字形->t0，
u1=字形->s1，
v1=字形->t1；
//顶点结构是位置、uv、颜色
AddVertexData（向量2（x0，y0），向量2（u0，v0），颜色）；
AddVertexData（矢量2（x0，y1），矢量2（u0，v1），颜色）；
AddVertexData（矢量2（x1，y1），矢量2（u1，v1），颜色）；
AddVertexData（向量2（x1，y0），向量2（u1，v0），颜色）；
//默认矩形元素依赖关系
AddRectElements（）；
位置x+=字形->前进x*比例；
}
}
无效字符串（常量标准：：字符串和文本、矢量2和位置、uint颜色、常量字体和字体）
{
使用名称空间ftgl；
纹理_font_t*ftFont=font.getFTFont（）；
用于（常量自动和c:文本）{
AddGlyph（位置、c、颜色、字体）；
} 
}

---

也许我应该更改库代码？如果是，我应该更改什么？

我尝试反转UV您是如何尝试反转UV的？嗯，将行

v0=glyph->t0

和

v1=glyph->t1

更改为

v0=glyph->t1

和

v1=glyph->t0

就足够了，因为这将导致垂直镜像的te纹理映射。或者这是你尝试过的，但它不起作用吗？是的，这是我尝试过的。可能是，矩形正好反映了轮廓线覆盖的区域。因此，镜像v意味着轮廓线的基线不再匹配。因此，你必须分别更改y。如果你保持UV不变，但更改

y1=y0-静态投影（轮廓线->高度），会怎么样，

到

y1=y0+static\u cast（glyph->height），

？请注意，这会改变四边形的方向。因此，您可能必须调整面剔除。可能是，最好禁用它，直到您正确操作为止。不，它看起来与UV更改后略有不同，但仍然不正确。是的！`y0=position.y-static\u cast（glyph->offset_y）+（ftFont->ascender+ftFont->depender）`行得通！我想知道什么是上升和下降，我不太明白。我找到了维基百科的公式，但对我来说有点不清楚。