使用cubemap（OpenGL/GLSL）的点光源是否可以使用软阴影？

我编写了一个管理聚光灯阴影贴图的3D应用程序。为此，我使用经典的阴影贴图技术（我在第一个渲染过程中填充深度纹理，在第二个渲染过程中，我比较从灯光到第一个遮罩的距离和从灯光到顶点位置的距离，以了解片段是否在阴影中）

下面是一个屏幕截图（聚光灯/2D深度纹理阴影贴图）：

在本例中，我使用函数“textureProjOffset”使用PCF阴影映射技术。下面是我的片段着色器中的一段代码：

使用的取样器：

sampler2DShadow Shadow2DSampler[MAX_LIGHTS_COUNT];

samplerCubeShadow ShadowCubeSampler[MAX_LIGHTS_COUNT];

对于硬阴影：

shadowFactor = textureProj(Shadow2DSampler[idx], ShadowCoords[idx]);

float ConvertDistToClipSpace(vec3 lightDir_ws)
{
    vec3 AbsVec = abs(lightDir_ws);
    float LocalZcomp = max(AbsVec.x, max(AbsVec.y, AbsVec.z));

    float NormZComp = (NearFar.y + NearFar.x)/(NearFar.y - NearFar.x)
        - (2.0f * NearFar.y * NearFar.x)/(LocalZcomp * NearFar.y - NearFar.x);

    return ((NormZComp + 1) * 0.5f);
}

float GetBiased_Cube_Hard_ShadowFactor(vec3 vertexPosition_ws, int idx)
{
    vec3 lightToVertexDir_ws = vertexPosition_ws - LightPos_ws.xyz;
    float LightToVertexClipDist = ConvertDistToClipSpace(lightToVertexDir_ws);

    float LightToOccluderClipDist = texture(
        ShadowCubeSampler[idx], vec4(lightToVertexDir_ws, LightToVertexClipDist));

    if (LightToOccluderClipDist < LightToVertexClipDist)
        return (0.0f);
    return (1.0f);
}

对于PCF软阴影：

for (int idy = offset; idy >= -offset; idy--)
                for (int idx = -offset; idx <= offset; idx++)
                    shadowFactor += textureProjOffset(
                        Shadow2DSampler[idz], ShadowCoords[idz], ivec2(idx, idy)); 

对于硬阴影：

shadowFactor = textureProj(Shadow2DSampler[idx], ShadowCoords[idx]);

float ConvertDistToClipSpace(vec3 lightDir_ws)
{
    vec3 AbsVec = abs(lightDir_ws);
    float LocalZcomp = max(AbsVec.x, max(AbsVec.y, AbsVec.z));

    float NormZComp = (NearFar.y + NearFar.x)/(NearFar.y - NearFar.x)
        - (2.0f * NearFar.y * NearFar.x)/(LocalZcomp * NearFar.y - NearFar.x);

    return ((NormZComp + 1) * 0.5f);
}

float GetBiased_Cube_Hard_ShadowFactor(vec3 vertexPosition_ws, int idx)
{
    vec3 lightToVertexDir_ws = vertexPosition_ws - LightPos_ws.xyz;
    float LightToVertexClipDist = ConvertDistToClipSpace(lightToVertexDir_ws);

    float LightToOccluderClipDist = texture(
        ShadowCubeSampler[idx], vec4(lightToVertexDir_ws, LightToVertexClipDist));

    if (LightToOccluderClipDist < LightToVertexClipDist)
        return (0.0f);
    return (1.0f);
}

float-ConvertDistToClipSpace（vec3-lightDir\u-ws）
{
vec3 AbsVec=abs（lightDir_-ws）；
float LocalZcomp=max（AbsVec.x，max（AbsVec.y，AbsVec.z））；
float NormZComp=（NearFar.y+NearFar.x）/（NearFar.y-NearFar.x）
-（2.0f*NearFar.y*NearFar.x）/（LocalZcomp*NearFar.y-NearFar.x）；
返回值（（正常比较+1）*0.5f）；
}
float-GetBiased\u-Cube\u-Hard\u-ShadowFactor（vec3-vert\u-ws，int-idx）
{
vec3 lightToVertexDir_ws=vertexdir_ws-LightPos_ws.xyz；
float LightToVertexClipDist=ConvertDistToClipSpace（lightToVertexDir_ws）；
float LightToOccluderClipDist=纹理(
阴影立方体采样器[idx]，vec4（lightToVertexDir_ws，LightToVertexClipDist））；
if（LightToOccluderClipDist

知道吗，使用立方体贴图的PCF软阴影呢？我做了一些研究，显然它不存在任何功能来恢复纹理偏移，就像使用简单的2D纹理和在片段着色器中使用关键字“sampler2DShadow”一样。我错了吗？（我希望如此！）

我想我有一个解决方案（当然，如果它不存在cubemap的任何解决方案）：

显然，要恢复纹理偏移，我必须使用6个单独的纹理（因此是一个大小为6的“sampler2DShadow”数组，而不是一个“samplerCubeShadow”）。因此，我将有一个同样均匀的矩阵数组x4x4，代表光空间中的世界，就像我在第一个案例中对聚光灯阴影贴图所做的那样。然后我将使用“TextureProjectOffset”方法处理6种纹理

那么，你认为呢？是否可以使用立方体贴图进行PCF软阴影处理？如果不是这样，我的解决方案正确吗？是否可以使用“samplerCube”或“samplerCubeShadow”使用类似“TextureProjectOffset”的函数？还是有其他选择

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非常感谢您的帮助

我所知道的为立方体贴图实现PCF软阴影的唯一方法是使用小偏移量多次查询纹理。例如，本文介绍了此方法。

非常感谢您的回答。拜拜。在现代AMD和NV驱动程序上，如果您对过滤器使用

samplerCubeShadow

和

GL_LINEAR

，它将自动执行2x2 PCF。2x2窗口非常小，因此您可能应该将硬件PCF与一些偏移结合起来，以增加有效窗口大小。这篇文章没有利用硬件的能力做2x2 PCF，因为它的年龄，但这通常是你应该如何处理这个问题。如果利用这一点，您可以使用4个查找而不是16个查找来实现4x4 PCF。