Opengl es OpenGLES：合并两个遮罩（位图）

我需要合并两个位图以将生成的位图用作掩码。在OpenGL-1.0中有没有一种方法可以做到这一点而不影响先前绘制的系统

这是我的算法：

1.绘制背景（不透明） 2.-绘制遮罩（这是两个位图的组合） 3.-绘制位图（需要屏蔽）

顺便说一句，我正在使用OpenGLES 1.0，因此着色器无法工作。任何帮助都将不胜感激

这是我的绘图功能：

  public void onDrawFrame(GL10 gl) {

  // clear the screen and depth buffer
  gl.glClear(GL10.GL_COLOR_BUFFER_BIT | GL10.GL_DEPTH_BUFFER_BIT);

  // drawing
  gl.glLoadIdentity();

  // draw the background
     gl.glTexEnvf(GL10.GL_TEXTURE_ENV, GL10.GL_TEXTURE_ENV_MODE, GL10.GL_REPLACE);
     gl.glTranslatef(0.0f, 0.0f, -3.72f);
     background.draw(gl);
  gl.glPopMatrix();

  gl.glPushMatrix();
     gl.glEnable(GL10.GL_BLEND);
     gl.glDisable(GL10.GL_DEPTH_TEST);

     // mask1 + mask2   
     gl.glLoadIdentity();
     gl.glTranslatef(0.0f, 0.0f, -3.72f);
     gl.glBlendFunc(GL10.GL_DST_COLOR, GL10.GL_ZERO);
     mask1.draw(gl);

     gl.glLoadIdentity();
     gl.glTranslatef(0.0f, y, -3.72f);
     gl.glBlendFunc(GL10.GL_DST_COLOR, GL10.GL_ZERO);
     mask2.draw(gl);

     gl.glLoadIdentity();
     gl.glTranslatef(0.0f, 0.0f, -3.72f);
     gl.glBlendFunc(GL10.GL_ONE, GL10.GL_ONE);
     picture.draw(gl);

     gl.glDisable(GL10.GL_BLEND);
     gl.glEnable(GL10.GL_DEPTH_TEST);
     gl.glFlush();
  gl.glPopMatrix();

     y -= 0.2f;

  }

---

你看过类似模具缓冲区的东西吗？这个答案实际上并没有合并位图，但它确实使用它们的组合作为掩码（如果这是您要查找的结果）。您可以使用掩码的逻辑AND或逻辑AND（不确定您想要什么）

我相信伪代码会是这样的：

glClear(GL_COLOR_BUFFER_BIT | GL_STENCIL_BUFFER_BIT); 

draw_background();

glEnable(GL_STENCIL_TEST); //enable stencil buffer
glStencilFunc(GL_ALWAYS, 0 , 0); //always pass stencil test
glStencilOp(GL_KEEP,GL_KEEP,GL_INCR); //increment buffer on fragment draw

draw_mask1();
draw_mask2();

if(OR masks) 
    glStencilFunc(GL_LEQUAL, 1, 0xffffffff); //OR masks: pass fragment if  (1 <= buffer)
else if (AND masks)
    glStencilFunc(GL_LEQUAL, 2, 0xffffffff); //AND masks: pass fragment if (2 <= buffer)

glStencilOp(GL_KEEP,GL_KEEP,GL_KEEP); //don't change buffer 

draw_bitmap_to_be_masked(); 

glClear（GL_COLOR_BUFFER_BIT | GL_STENCIL_BUFFER_BIT）；
绘制背景（）；
glEnable（GL_模板试验）//启用模具缓冲区
glStencilFunc（GL_始终，0,0）//始终通过模板测试
glStencilOp（GL_KEEP，GL_KEEP，GL_INCR）//片段绘制时的增量缓冲区
画图1（）；
绘制图2（）；
如果（或面具）
glStencilFunc（GL_LEQUAL，1，0xffffffff）//或掩码：如果（1您是否查看过类似于模具缓冲区的内容，请传递片段？此答案实际上不会合并位图，但如果您正在查找的结果是这样的，它会将它们的组合用作掩码。您可以使用掩码的逻辑或逻辑AND（不确定您想要什么）

我相信伪代码会是这样的：

glClear(GL_COLOR_BUFFER_BIT | GL_STENCIL_BUFFER_BIT); 

draw_background();

glEnable(GL_STENCIL_TEST); //enable stencil buffer
glStencilFunc(GL_ALWAYS, 0 , 0); //always pass stencil test
glStencilOp(GL_KEEP,GL_KEEP,GL_INCR); //increment buffer on fragment draw

draw_mask1();
draw_mask2();

if(OR masks) 
    glStencilFunc(GL_LEQUAL, 1, 0xffffffff); //OR masks: pass fragment if  (1 <= buffer)
else if (AND masks)
    glStencilFunc(GL_LEQUAL, 2, 0xffffffff); //AND masks: pass fragment if (2 <= buffer)

glStencilOp(GL_KEEP,GL_KEEP,GL_KEEP); //don't change buffer 

draw_bitmap_to_be_masked(); 

glClear（GL_COLOR_BUFFER_BIT | GL_STENCIL_BUFFER_BIT）；
绘制背景（）；
glEnable（GL_模具_测试）；//启用模具缓冲区
glStencilFunc（GL_ALWAYS，0，0）；//始终通过模具测试
glStencilOp（GL_KEEP，GL_KEEP，GL_INCR）；//片段绘制时的增量缓冲区
画图1（）；
绘制图2（）；
如果（或面具）
glStencilFunc（GL_LEQUAL，1，0xffffff）；//或掩码：如果（1）遮罩是一些屏幕对齐的四边形？可以将
mask1
和
mask2
用作
picture
的纹理吗？可以。两者都可以用作纹理。问题是，一个位于固定位置，另一个将移动和/或旋转。因此，我希望仅显示两个遮罩的组成（某种程度上和他们之间）
Background
覆盖了整个屏幕。那么
picture
呢？这也覆盖了整个屏幕吗？遮罩肯定更小。你看了吗：是的，我正在寻找类似的东西。问题是OpenGLES似乎没有glBlendFuncSeparate这个功能（至少在Android上没有）解决一个简单的任务需要很长时间…我可能不得不放弃OpenGL作为解决方案：-这些掩码是一些屏幕对齐的四边形？可以将
mask1
和
mask2
用作
picture
的纹理吗？是的。两者都可以用作纹理。问题是，一个位于固定位置，另一个将移动g和/或旋转。因此，我只希望显示两个遮罩的组成（某种类型和它们之间）
Background
覆盖了整个屏幕。那么
picture
呢？这也覆盖了整个屏幕吗？遮罩肯定更小。你看了吗：是的，我正在寻找类似的东西。问题是OpenGLES似乎没有glBlendFuncSeparate这个功能（至少在Android上没有）.而且解决一个简单的任务需要很长时间…我可能不得不放弃OpenGL作为解决方案：-S