Webgl 深入考虑模板

我正在使用正交投影来绘制我的对象。 每个对象项被添加到不同的缓冲区，并在几个周期内绘制。 假设每个对象都有一个轮廓正方形，并为正方形填充（颜色不同）。 所以我先画所有的填充物，然后画轮廓

我使用深度缓冲区来确保轮廓不会覆盖所有填充，如图所示

现在我面临一个问题，每个对象上都包含另一个绘图项（例如文本点），它可能比这个正方形长。所以我使用模具缓冲区在正方形上剪切这张额外的画。尽管如此，在执行此操作时，深度缓冲区中没有考虑。 这意味着一个文本项可以在另一个正方形上绘制。如下所示

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有没有技巧可以让它发生？

您应该能够为每个正方形将模具缓冲区设置为不同的值（前提是我有超过255个对象，从技术上讲它们不是正方形-它们是纹理图集中的一些纹理-如字体：），我想简化这个问题。有什么比检查像素着色器中的每个像素是否超出边界更快的方法吗？我不这么认为-模具和剪刀测试都需要昂贵的状态更改。但是像素着色器检查会相对便宜。你说在着色器中计算和“丢弃”像素比使用模具缓冲区更快吗？这不是缓冲区的用途吗？如果您必须更改绘图单个对象之间的模具状态，否则这些对象将被批处理在一起，这将非常昂贵。但是，如果您能够有效地剪裁像素着色器，则可能只需要很少的状态更改。至少这是我的直觉，你必须分析它。我已经通过将深度测试改为相等来解决它。现在，文本仅在背景位于相同Z值的位置绘制。